纳鑫“新型单晶PERC碱背抛技术”

纳鑫“新型单晶PERC碱背抛技术”

2019-09-20 13:11
摘要:
单晶PERC提效降本依然是近几年研发的主旋律,在未来市场具有巨大的发展潜力。相比传统工艺,纳鑫新型单晶碱背抛技术在降低硝酸等化学品成本,减少后期产出废液,降低废液处理成本等方面均能够发挥优越性能。此外,纳鑫新型碱抛工艺的电池背面较常规酸抛更加平整,制成的PERC电池效率较常规刻蚀工艺电池高0.1%左右。  纳鑫新型单晶PERC碱背抛技术通过独有工艺的改良,有效解决了SE与碱抛的兼容问题。  纳鑫新型单晶PERC碱抛技术,在提效降本的基础上分为两个步骤:背面抛光及正面保护。基于PERC背抛技术工艺电池池制备方法,主要包括以下十个步骤:  1)制绒;  2)扩散;  3)背面酸洗;  4)背面抛光;  5)去磷硅玻璃;  6)背面ALD沉积氧化铝;  7)正面PECVD沉积SiNx;  8)背面PECVD沉积叠层钝化膜;  9)背面局部激光开口;  10)丝网印刷和烧结。  背面酸洗中硅片常温经过背面酸洗槽,酸槽中HF浓度3%~20%,背面碱洗中背面抛光为槽式机内使用氢氧化钠或氢氧化钾、抛光添加剂以及水混合所配溶液对硅片背表面进行抛光,抛光后在HF溶液中去除PSG,KOH浓度2%±0.5,温度60~80℃。  纳鑫新型单晶PERC碱背抛平均反射率可达到45%以上,可实现减重:0.18g~0.22g,反射率:45%~46%,从反应过程来看,正面无明显变化,绒面未遭到明显破坏。
纳鑫新型黑硅技术——“大圆孔”

纳鑫新型黑硅技术——“大圆孔”

2019-09-20 11:33
摘要:
目前市场上湿法黑硅技术日趋成熟,解决了多晶太阳能电池表面反射率较高的问题,提升了电池效率。然而传统湿法黑硅技术工艺步骤的复杂性使其亟待改善,而纳鑫全新推出的新型多晶黑硅技术——“大圆孔” 不论在工艺流程的简化,化学及设备成本的降低,电池片产线生产时间及产能的提效均显现出其高性能的特征。
南京纳鑫新产品推广交流会

南京纳鑫新产品推广交流会

2019-09-20 10:41
摘要:
9月11日,南京纳鑫新材料有限公司召开纳鑫新产品推广交流会,纳鑫研发部门、技术团队、销售部门参加此次会议,长安东泽市场营销策划中心经理张书芳一行人莅临纳鑫新产品技术推广交流会,与我公司展开新产品技术交流活动。会议重点围绕纳鑫新型黑硅“大圆孔”、纳鑫新型单晶“PERC碱背抛技术”两种新工艺的工艺特点,技术突破,市场优势展开商讨。
南京纳鑫消防安全演练

南京纳鑫消防安全演练

2019-07-08 16:09
摘要:
7月4日,我公司认真贯彻“预防为主、防消结合”的消防工作方针,举行了消防演练和消防检查,普及消防知识,加大宣传力度,提高广大职工的防火意识,消防技能;增强安全防火工作的自觉性和责任感,实行安全防火责任制的消防工作原则,依法管理、科学管理,从而保障我厂正常的生产秩序进行,确保安全生产,提高防范意识。
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